Vật liệu đích phun phủ gốm kẽm sulfide

ZnS vật liệu mục tiêu phẳng áp dụng chân không quá trình ngâm ép nóng, có thể được sản xuất.

• Mật độ: 4,0g/cm³
• Độ tinh khiết: 99,99% - 99,999%

Được sử dụng rộng rãi trong:

• Chip bán dẫn
• Photovoltaic năng lượng mặt trời cuối cùng
• Màn hình màn hình phẳng
• Sơn đặc biệt và các ngành công nghiệp khác

Các vật liệu mục tiêu gốm khác nhau được sản xuất bằng phương pháp ngâm ép nóng chân không có công nghệ tiên tiến và quy trình sản xuất trưởng thành.

• Năng lượng mặt trời màng mỏng
• Màn hình màn hình phẳng
• Lớp phủ quang học
• Các chất bán dẫn
• Ngành công nghiệp quân sự

Công ty đã hợp tác với nhiều trường đại học nổi tiếng trong và ngoài nước, cam kết nghiên cứu và phát triển các vật liệu và quy trình mới,và tiếp tục cung cấp các sản phẩm và dịch vụ vật liệu mục tiêu chất lượng cao cho khách hàng trong nước và nước ngoài.